№ 1

Аннотации журнала «Приборы» № 1, 2020 год
 
АННОТАЦИИ
XIV ВСЕРОССИЙСКАЯ НАУЧНО-ПРАКТИЧЕСКАЯ КОНФЕРЕНЦИЯ «МЕТРОЛОГИЧЕСКОЕ ОБЕСПЕЧЕНИЕ ВЕСОИЗМЕРИТЕЛЬНОЙ ТЕХНИКИ «ВЕСЫ-2019»

Журнал «Приборы» осуществляет информационную поддержку конференции «Метрологическое обеспечение весоизмерительной техники», которую в течение четырнадцати лет проводит ФГУП «ВНИИМС» Росстандарта. По материалам докладов, представленных на конференции, журнал публикует подборку статей ведущих специалистов в области разработки, производства, испытаний и эксплуатации весоизмерительной техники, в том числе из научно-исследовательских институтов, предприятий-изготовителей, РЖД, предприятий химической и нефтехимической промышленности, центров испытаний средств измерений и государственных региональных центров стандартизации, метрологии и испытаний Росстандарта, организаций, осуществляющих надзорные функции.

Ю.Б. Цветков, Ю.В. Панфилов (e-mail: tsvetkov@bmstu.ru)
Современная контактная фотолитография – ключевой процесс микроэлектронного приборостроения

Проведен анализ возможностей и перспектив контактной фотолитографии. Рассмотрены основные виды контакта фотошаблона и подложки: жесткий и конформный (гибкий, мембранный, эластомерный); применяемые при этом способы прижима: мягкий, плотный, вакуумный, электростатический. Выделены и рассмотрены современные методы повышения разрешения контактного экспонирования: ввод излучения в локализованных участках с плотным контактом (Light Coupling Mask), редукция изображения за счет краевого фазового сдвига (Edge Phase Shift), формирование изображения в эванесцентном (затухающем) поле (Evanescent Field), усиление эванесцентного поля поверхностным плазмонным резонансом (Plasmon Polaritron Resonance). Выявлены направления развития систем контактной фотолитографии для достижения субволнового разрешения.

Ключевые слова: фотолитография, экспонирование, контакт, прижим, повышение разрешения, Light Coupling Mask, Edge Phase Shift, Evanescent Field, Plasmon Polaritron Resonans.

Вернуться